Hvaða húðunaraðferðir geta ræktað þunnar einkristalfilmur?

Hver er munurinn á CVD, PVD og epitaxial búnaði?

Flokkur CVD, PVD og epitaxial ferli

CVD, PVD,?
CVD: LPCVD, APCVD, SACVD, PECVD, HDPCVD, FCVD, MOCVD osfrv.
PVD: Uppgufun rafeindageisla, segulsviðasputtering, PLD (pulsed laser deposition) osfrv.

Epitaxial: Sameindageislaeptaxy MBE, gasfasa epitaxy VPE, fljótandi fasa epitaxy LPE, solid phase epitaxy SPE, osfrv

Meðal þeirra eru CVD, PVD og epitaxy svipaðar í grundvallaratriðum og það eru margar leiðir til að flokka þau og ofangreint er flokkunaraðferðin mín.

Kvikmyndandi vélbúnaður afCVD, PCVDogEpitaxial?

Eins og sést á myndinni hér að ofan er engin furða að ofangreindar þrjár aðferðir við útfellingu þunnrar filmu séu ofangreindar:

2D lag-fyrir-lag vaxtarhamÍ þessari húðunaraðferð fer vöxtur þunnu filmunnar fram lag fyrir lag og hvert lag af atómum eða sameindum þekur algjörlega yfirborð skúffunnar áður en næsta lag hefst. Þessi vaxtarmáti getur leitt til mjög flötra filmuflata, eins og ofurgrindarbygginga.

3D eyjavöxtur (Volmer-Weber)

Í þessum ham er vöxtur filmunnar ekki lengur lag fyrir lag, heldur myndar ósamfelldar eyjar á sumum staðbundnum svæðum á yfirborði skífunnar, sem smám saman aukast og að lokum þekja alla skífuna. Samspilskrafturinn milli kvikmyndarinnar sem myndast og undirlagsins er veikur og yfirborðslaus orka kvikmyndarinnar er mikil.

Blandaður vöxtur Í þessum vaxtarham

Myndin mun upphaflega vaxa lag fyrir lag í nokkurn tíma og þegar hún nær ákveðinni þykkt, vegna uppsöfnunar álags, byrjar hún að mynda eyjalíka byggingu. Almennt séð eru aðferðirnar sem geta ræktað einkristalla þunnar filmur mólecular beam epitaxy MBE, gas phase epitaxy VPE, fljótandi fasa epitaxy LPE, solid phase epitaxy SPE, MOCVD, PLD (pulsed laser deposition). 2D lag-fyrir-lag vaxtarstillingin gerir það auðveldara að mynda einkristalla, en CVD og PVD er hægt að nota til að búa til fjölkristallaða eða myndlausa kristalla með því að stilla ferli aðstæður.